大家好，今天小編關(guān)注到一個比較有意思的話題，就是關(guān)于中國量子領(lǐng)域新突破的問題，于是小編就整理了2個相關(guān)介紹中國量子領(lǐng)域新突破的解答，讓我們一起看看吧。

1. 中科大立大功！光量子芯片核心技術(shù)被突破，中國能否換道超車？
2. 中國“量子芯”大突破！造出3nm芯片刻蝕機，中微到底有多強？

中科大立大功！光量子芯片核心技術(shù)被突破，中國能否換道超車？

關(guān)于芯片抓緊彎道超車吧，我一看見芯片被卡脖子，我就心急火燎的焦慮。其實芯片跟我這個平頭百姓沒啥關(guān)系，但是我急的是買不到華為的便宜手機。華為的手機現(xiàn)在是動不動都五六千上萬塊。我想買2000~3000塊的華為手機。抓緊彎道超車吧，讓我們這種平頭百姓也享受一下手機高科技。

我們現(xiàn)在對科技發(fā)展的報道總感覺有點超前？剛剛研究或?qū)嶒灣鰜淼牟牧匣虍a(chǎn)品，就大吹、特吹。我們能不能現(xiàn)實一點，抻著一點，報道的低調(diào)一點？因為一種產(chǎn)品或者技術(shù)的成功，需要得到專家的認(rèn)可，需要得到國際同行們的認(rèn)證，需要經(jīng)過一定時期的穩(wěn)定性的環(huán)境監(jiān)測和考驗，需要降低產(chǎn)品的價格，需要進(jìn)行技術(shù)或產(chǎn)品的專利許可，需要得到相關(guān)廠家的生產(chǎn)許可和資金支持，需要達(dá)到批量生產(chǎn)，需要試銷試用和經(jīng)手住市場考驗，需要通過各種專利侵權(quán)的質(zhì)問等等…；這里面有一個或幾個標(biāo)準(zhǔn)不達(dá)標(biāo)，都不可能稱之為成功。我們要學(xué)習(xí)日本科學(xué)家的精神，低調(diào)宣揚，高調(diào)做事，讓子彈在飛一會。那時，我們怎么說就都有底氣了。

科技才是中國發(fā)展的正道，制造業(yè)才是中國復(fù)興的根基。去工業(yè)化，拼命發(fā)展服務(wù)業(yè)是本末倒置，一旦發(fā)生如現(xiàn)在的世紀(jì)大瘟疫，就像美國一樣，空有科技大國盛名，抗疫一地雞毛，就算發(fā)生戰(zhàn)爭，打的也是鋼鐵槍炮機械設(shè)備，你這些都造不出來，打什么打，中國只要保持制造業(yè)大國地位，全力沖刺科技制高點，根本不用怕美歐挑釁，戰(zhàn)爭訛詐。

中國“量子芯”大突破！造出3nm芯片刻蝕機，中微到底有多強？

我國企業(yè)中微成功研制出3nm的刻蝕機，且相關(guān)技術(shù)已經(jīng)進(jìn)入了可以量產(chǎn)應(yīng)用的階段，中國芯片有了重大突破，但這也更深刻地揭示出中國面臨的、不公正的光刻機之痛。

與名聲在外的光刻機相比，刻蝕機的名字確實相對低調(diào)，但這并不意味著刻蝕機不重要，只是因為中國已經(jīng)擁有了先進(jìn)的刻蝕機技術(shù)而已?？陀^來說，刻蝕機是與光刻機相提并論的重要芯片加工機器，兩者的地位等同，在納米芯片大規(guī)模生產(chǎn)的規(guī)程中缺一不可。中微在刻蝕機領(lǐng)域的不斷研發(fā)、不斷開創(chuàng)，成功研發(fā)3nm刻蝕機確實是一件令人驚喜的好消息，真是振奮人心、振奮士氣。

同樣具有極高技術(shù)水平的刻蝕機設(shè)備

先來簡要地介紹一下刻蝕機。

芯片加工大致可以分為兩個粗略的環(huán)節(jié)，一是把芯片工作所需要的芯片架構(gòu)刻上去，二是要把可能會干擾芯片工作的無用內(nèi)容消除掉。完成第一個工作的設(shè)備就是大名鼎鼎的光刻機，目前世界上最頂尖的光刻機企業(yè)來自荷蘭，而該企業(yè)的科技其實是雜交而來的（即融合了多個國家的多個技術(shù)）；完成第二個工作的設(shè)備就是今天提到的刻蝕機，中國企業(yè)在刻蝕機領(lǐng)域一直處于頂尖水平，曾多次突破美國的技術(shù)封鎖，如今更是再創(chuàng)新高。

中國刻蝕機成功追超世界頂尖水平，而光刻機依舊被美國卡住了脖子，這種悲劇更深刻地揭示出中國面臨的、不公正的、光刻機之痛。什么樣的痛苦？那就是在某些時刻、在某些領(lǐng)域，中國必須依靠自己的力量、依靠14億人的拼搏，追逐、趕上其他60億人的工作。

為什么這么說？這就要從刻蝕機與光刻機的異同說起。很多人都以為刻蝕機的技術(shù)要比光刻機簡單，但其實并不是這么一回事：光刻機和刻蝕機在技術(shù)難度上處于同一水平，只是在技術(shù)種類的多與少上有很大的差異，光刻機所需的技術(shù)種類要比刻蝕機更多。

光刻機需要什么？它需要工作臺、光矯正器、形狀設(shè)計裝置、能量控制裝置、能量探測裝置，nm級的掩膜設(shè)備，高精尖的復(fù)雜物鏡等多個頂尖的技術(shù)設(shè)備，涉及到的頂級技術(shù)非常多，目前沒有任何一個國家可以單獨拿出所有的技術(shù)。注意，不只是中國，沒有國家在以上所有的光刻機技術(shù)領(lǐng)域都處于頂級水平，大家都只是擁有其中的一部分，最后通過不同企業(yè)的合作來生產(chǎn)頂級光刻機。

相比之下，刻蝕機主要依靠基于感應(yīng)耦合的等離子體刻蝕技術(shù)，主要的技術(shù)是高精尖的控制系統(tǒng)、各種射頻單元、頂級的光譜測量技術(shù)、阻抗監(jiān)控以及探測技術(shù)、壓力控制以及質(zhì)量控制器，它所需的頂級技術(shù)在數(shù)量上相對較少。因此，中國在經(jīng)過努力之后，成功追趕上了世界頂級的水平。

刻蝕機和光刻機的對比清楚地告訴我們：不是中國人不努力，不是中國人不聰明，而是中國人需要做的事情太多了。光刻機的技術(shù)不是美國單獨研發(fā)的，而是美國以及眾多國家共同研發(fā)出來的，中國要追趕的也不是單單一個美國，而是世界上研發(fā)光刻機的所有國家，這注定是一個復(fù)雜而又艱巨的工作。

中國從不否認(rèn)自身的不足，也不畏懼競爭者的強大，但中國的光刻機研發(fā)者們真的需要時間。

祝愿國產(chǎn)光刻機早日像刻蝕機那樣蓬勃發(fā)展、一飛沖天。

到此，以上就是小編對于中國量子領(lǐng)域新突破的問題就介紹到這了，希望介紹關(guān)于中國量子領(lǐng)域新突破的2點解答對大家有用。